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セラミック・化合物半導体のレーザ加工例

レーザ セラミック穴
φ100μm t=0.4mm
レーザ セラミック溝
幅約25μm 深さ約300μm



・Si、SiC、GaN、サファイア、AlN、ZnO、LN、GaP、Al2O3、GaAs、LiTaO3、グリーンシート

などへの加工も可能です。

その他の部材への加工等についてもお気軽にお問合わせ下さい!


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